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       盤式液體分布器是常用的液體分布器。它是在底盤上開布液孔與升氣管，氣體從升氣管上升，而液體從小孔中流下。底盤固定在塔圈上，固定方式與塔板相同。根據所用填料類型及被分離物系的要求，布液孔數及排列要適當。升氣管截面為圓形或矩形，其高度在200mm以下，由物系與操作彈性而定。

對于組裝式非焊接結構為防漏液，其操作彈性 為1:2。盤式孔流型分布器用于直徑1m以下的塔中時做成帶有邊壁的分布器，如上圖所示。對于用法蘭連接的小塔，可制成整體以防漏液，用支耳固定在塔壁上，分布器周邊與塔壁形成的空間作為氣體通道，約占塔截面的15%，因而可減小盤內升氣管面積，以利布液孔分布。整體式分布器操作彈性可達1:4以上。

對于直徑大于3m的大塔，可采用盤式分布器，它用一個（對于更大的塔可用兩個）支撐梁將分布器分成兩部分，設計時要考慮在負荷下支撐梁每米 撓度小于1.5mm。塔壁支撐圈寬度由塔徑而定，一般為40~100mm。兩個分液槽置于矩形升氣筒之上，有兩個分液槽將液體加入到盤上，其目的是為了減少盤上的液面落差及加強濃度混合之用。進入的液體由導管分配到兩個分液槽中，分液槽的設計與槽式分布器相同。




      盤式分布器與槽式分布器相比，由于它的液面較低占用空間小，且布液孔處于同一液面高度（槽式分布器難以達到與各槽液面相同），故液體分布較均勻。它的 缺點是用作再分布器時，難以達到濃度混合，而且液面不能過高，否則造成漏液，故布液孔一般開在底板上。此外，布液孔的布置不如槽式分布器靈活。在安裝位置上，盤式液體分布器要有足夠的氣體釋放空間，要求安置在距填料上表面150~300mm處；而槽式分布器則要求放置于填料定位器上，一般距填料表面50mm。
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